ロシアがASMLに対抗するべく独自のEUV露光装置を開発開始

「EUV露光装置」は最先端半導体の製造に必要不可欠な装置で、オランダ企業のASMLが大きなシェアを握っています。新たに、ロシアがASMLに依存しない独自のEUV露光装置開発計画を作成しました。計画ではASMLとは異なる仕組みのEUV露光装置の開発が想定されており、装置以外の半導体製造ツールの総入れ替えも必要になるそうです。

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Source: gize